该晶圆制作业厂座落在华中位置，主要的工作84英寸光电器件晶圆，每日化工废水排放量出量约800吨。根据工作具体步骤中选择许多氢氧化钠实施晶圆蚀刻，从而导致化工废水里氟化物含量敢达200-300mg/L，远超我国排放量出标准（10mg/L如下）。 废污水组分及原因 废污水核心原于这三个节点： 晶圆蚀刻加工过程 ：含高浓硫酸浓度氟化物（HF）、氯化铵及一点天价属 药剂学机诫抛光剂（CMP）废水处理 ：含nm级硅颗粒物、设计络合剂 机器清洁污废水 ：含异丙醇、挥发酚等有机质物 正确处理加工程序流程 按照"化学工业沉垫+混疑沉垫+纵深油烟净化器"3级处置体统： 一级通过成绩清理 ：加药系统氯化钙和氢空气氧化钙，出现氟化钙水解，氟化物清理率达85% 二次治理 ：填加PAC（缩聚氯化铝）和PAM（高密度聚乙烯酰胺），出掉溶液态感染物 二级净化处理 ：确认多物料过滤程序器和活性酶类炭吸，出液氟化物浓硫酸浓度维持在8mg/L一些 关键性设备比如：pH自己调低软件、斜管析出池、板框压滤设备（淤泥脱水等）。 最后效果好 工程使用5年污染监测的数据凸显： 氟化物平均的盐浓度：7.2mg/L（低过发展中国家的标准） COD除去率：92% 生活污水水分含量率：≤65% 年再根据氟化钙副商品约150吨，体现资源的化根据